第203章 追光二期光源长稳测试（2 / 2）

「如果故障确实是电极绝缘性能下降，我们能不能……」陈醒的目光锐利，「不修复绝缘层，反而主动降低它的绝缘性能，把它变成一个可控的放电电极？」

金秉洙倒吸一口凉气：「您是说……故意让它在特定电压下稳定放电，形成一个预设的补偿电场，来抵消原本的漏电场畸变？」

「对。就像治疗心律失常，有时候不是修复心脏，而是安装一个起搏器。」陈醒在白板上快速画出示意图，「我们设计一个反馈控制回路，实时监测腔体内的电场分布，通过调节这个『缺陷电极』的放电电流，主动补偿电场畸变。只要控制精度足够高，系统可以『带病运行』，直到我们完成长稳测试，再安排大修。」

这个想法大胆到近乎疯狂。在EUV光源这种精密设备中，主动引入一个不稳定因素，然后用更复杂的控制系统来驯服它，这违背了所有工程师的直觉，设备应该越纯净丶越稳定越好。

但金秉洙沉默了。他盯着陈醒画的示意图，大脑在飞速运转。几分钟后，他抬起头，眼中闪烁着一种混合着恐惧和兴奋的光芒：「理论上……可行。我们有高速电场传感器阵列的数据，有实时雷射束和锡滴轨迹监测，闭环控制算法的响应时间可以做到微秒级。但是陈总，如果控制失效，放电失控……」

「整个光学腔体可能会被电弧击穿，损失数百万美元的核心镜组。」陈醒平静地说出了最坏的结果，「所以这个决定需要你来下，金博士。你是这个项目的负责人，最了解系统的极限。」

实验室里落针可闻。所有人都看着金秉洙。

这位在EUV领域奋战了二十年的老工程师，此刻脸上每一道皱纹都在诉说挣扎。他闭上眼睛，脑海里闪过无数画面：五年前项目启动时的雄心壮志，三年前第一次点亮EUV光的狂喜，一年前稳定度突破98%时的热泪盈眶……还有那些在实验室里度过的不眠之夜，那些年轻工程师们熬红的双眼。

他睁开眼睛，看向团队里那些年轻的面孔，章晴正紧张地咬着嘴唇，手里无意识地转动着一支电子笔；负责雷射系统的女工程师李悦手指在虚拟键盘上悬停，等待指令；还有刚从德国回来加入团队的博士后小王，眼里满是跃跃欲试的火焰。

这些年轻人把最好的年华赌在了这个项目上。如果因为保守而延误了「深红路线图」，他们可能会错过一个时代。

「干。」金秉洙的声音不大，但异常坚定，「我们做原位诊断，确认故障性质。如果是电极问题，就按陈总的方案来。控制系统我来负责设计，给我……六小时。」

「四小时。」陈醒看了一眼墙上的时钟，「现在是凌晨四点四十五分。上午九点前，我要看到诊断结果和初步控制方案。十点，我们开决策会。」

命令下达，实验室瞬间进入高速运转状态。

章晴带领建模组紧急开发雷射诱导击穿光谱的反演算法；李悦团队重新编程微透镜阵列控制系统，为第七束雷射设计复杂的空间扫描路径；金秉洙则把自己关在小会议室里，在白板上疯狂推导电场补偿控制方程。

陈醒没有离开。他坐在实验室角落的一把椅子上，面前摊开着「深红路线图」中关于EUV整机集成的章节。但他没有看文件，而是闭着眼睛，仿佛在聆听设备冷却系统低沉的嗡鸣，又仿佛在等待着什麽。

早上七点半，第一组诊断数据出炉。

高速光谱仪捕捉到了清晰的碳特徵峰和微量的钼元素峰，第四高压电极的氧化铝绝缘层确实发生了热致碳化，并且有基底钼电极材料通过微观裂纹迁移至表面。介电常数测量更证实了绝缘性能下降了约40%。

「和您的判断完全一致。」金秉洙将报告递给陈醒，语气里带着敬佩，「现在的问题是，这个『起搏器』方案，具体参数怎麽定？放电电流多大？反馈控制带宽多少？最重要的是，安全边界在哪里？」

陈醒接过报告快速浏览，然后走到控制台前，调出电极的三维模型：「绝缘层碳化最严重的区域在这里，距离主光路3.7毫米。我们需要在这里建立一个局部的丶稳定的辉光放电等离子体区。」

他在屏幕上画出一个扁平的椭球区域：「放电电流控制在0.5到2毫安之间，通过调节脉冲占空比来改变等效电流。电场传感器数据每10微秒采样一次，控制算法响应延迟必须小于50微秒。安全边界……设定为放电区域边界距离最近光学元件不得小于2毫米，一旦监测到距离小于1.5毫米，立即切断高压，停机保护。」

「明白了。」金秉洙开始将参数输入控制软体，「我们会先在低功率模式下测试，逐步升高。」

上午八点五十分，系统重启准备就绪。

所有人都屏住呼吸。主控屏幕上，代表第四电极放电电流的曲线从零开始缓缓上升。0.1毫安丶0.2毫安……当电流达到0.5毫安时，监控画面显示电极表面出现了微弱的蓝紫色辉光。

「放电稳定，无闪烁现象。」李悦汇报。

「电场畸变监测。」陈醒下令。

另一块屏幕上，原本扭曲的电场分布图开始发生变化。那个因绝缘漏电产生的「凹陷」区域，在放电电场的补偿下，正缓慢地被「填平」。

「畸变率从17%下降至9%……5%……2%！」章晴的声音带着难以置信的激动，「雷射束同步偏差恢复正常！锡滴击中率回升至98.3%！」

「逐步提升EUV输出功率。」金秉洙的声音沉稳，「5%丶10%丶20%……回归额定功率。」

巨大的嗡鸣声重新响起，但这一次，主控屏幕上那条绿色的稳定度曲线，在经历短暂波动后，开始坚定地向上爬升。

97.1%丶97.5%丶97.9%……

上午九点十八分，曲线稳稳地停在了98.0%，并在小数点后两位的范围内轻微波动。

实验室里爆发出压抑的欢呼。年轻工程师们相互击掌，有人甚至偷偷抹了抹眼角。

但陈醒和金秉洙都没有笑。他们盯着那条曲线，等待它更长时间的表现。

一小时丶两小时丶三小时……中午十二点，「追光二期」已经连续稳定运行了三小时四十二分钟，功率稳定度始终维持在97.9%到98.1%之间。

「长稳测试重新开始计时。」金秉洙正式宣布，「目标：连续168小时，稳定度不低于97.5%。」

陈醒终于微微松了口气。他拍了拍金秉洙的肩膀：「金博士，这里交给你了。控制算法要继续优化，每八小时给我一份稳定性报告。」

「明白。」金秉洙犹豫了一下，还是问道，「陈总，您那个『原位诊断』和『主动补偿』的思路……是怎麽想到的？这完全超出了常规的工程思维。」

陈醒沉默了几秒，看着实验室里那些重新投入工作的年轻身影，轻声说：「因为我见过太多『完美设计』在现实面前崩溃。有时候，接受不完美，学会与缺陷共处，反而能走得更远。」

他转身离开实验室时，窗外阳光正烈。

在返回专车的路上，陈醒的手机震动。是周明发来的加密信息：

「欧罗巴代表团今日下午将与工信部进行第二轮闭门磋商。我方消息源透露，他们此行的一个重要议题是『建立针对新兴技术标准的第三方认证体系』。另：林薇总已安全抵达宝岛，正按计划与目标接触。」

陈醒快速回覆：「继续密切关注。林薇那边有任何进展立即通知我。」

他坐进车里，闭目养神。脑海里却不由自主地浮现出「深红路线图」中的另一个节点，关于EUV整机集成的下一个挑战：光源与光刻机主体的耦合测试。那将需要更精密的控制丶更稳定的性能丶以及……更强大的抗风险能力。

今天这场「带电作业」式的抢修，不过是漫长征途中的一次小规模遭遇战。真正的硬仗，还在后面。

而此刻在华夏芯谷的实验室里，章晴正盯着最新一批长稳测试数据，眉头微皱。在他的良率建模软体中，系统自动标注出了一个异常点，在上午十点零七分，EUV输出光谱中出现了一个极其微弱丶持续仅0.2秒的异常峰，波长为13.52nm，与标准的13.5nm有轻微偏移。

这个偏移小到几乎可以忽略不计，连实时监控系统都没有报警。但章晴的模型显示，如果这种偏移在特定工艺条件下出现，可能会导致光刻胶曝光时的线宽偏差放大三倍。

他犹豫了一下，是现在就报告，还是等收集更多数据？