第198章 国产EUV光源突破（2 / 2）

团队成员们几乎住在实验室，方便面箱子堆成了小山，每个人的眼窝都深陷下去，但眼神中的火焰却从未熄灭。这是一场与时间丶与物理极限的赛跑。

七天后，首个集成了纳米保护膜和新式微透镜阵列的优化版锡滴发生器，被小心翼翼地安装到位。

设备启动。雷射束通过布满微小透镜的阵列，瞬间被分解成十六道更细的光束，如同精准的外科手术刀，从不同角度同步轰击在锡滴上。

主控屏幕上，那条原本总是带着细微抖动的绿色曲线，陡然间变得前所未有的平滑！

「功率稳定度……97.8%！」

操作员的声音因激动而变调，

「锡滴均匀度提升18%！初步预估喷嘴磨损速度下降超过35%！」

实验室里爆发出压抑的欢呼！但没有人放松，这还不是最终胜利。

徐文渊团队根据初步数据，连夜微调保护膜成分与厚度。

金秉洙团队则对十六个子束的能量配比进行精细化雕琢。

三天后，最终测试启动。

当设备稳定运行一小时后，稳定度曲线稳稳定格在98.3%！连续八小时耐力测试结束，数据显示：稳定度维持在98.1%至98.5%之间波动，衰减远低于0.5%的生死线！

成功了！

这一刻，实验室沸腾了！年轻的工程师们相拥而泣，年长的研究员们则红着眼眶，用力拍打着彼此的肩膀。

金秉洙与徐文渊两位教授紧紧握手，一切尽在不言中。数年心血，无数不眠之夜，终于换来了这打破垄断丶自主可控的「华夏之光」！

林薇第一时间将捷报传回深城。

陈醒正在主持「天机云」的海外架构评审会，接到消息，他立刻暂停会议，深吸一口气，强压下心中的澎湃：

「立刻组织最终验收，确保万无一失！通知章宸和梁志远，『天权5号』14nm流片，按原计划，准时启动！」

然而，成功的喜悦还未散去，周明的加密通讯接了进来，带来了凛冽的寒意：

「陈总，阿斯莫通过其在欧洲的盟友，已经探测到我们的EUV光源突破。他们正在华盛顿紧急游说，试图将我们的EUV相关技术全部纳入管制清单。同时，宝积电也可能迫于压力，限制我们在先进封装技术上的合作。」

陈醒的眼神瞬间锐利如刀。封锁，从未停止，只会变本加厉。

「意料之中。」

陈醒语气冰冷，

「周明，密切监视，联合一切可以联合的力量，做好法律和外交层面的应对。林薇，EUV整机集成项目立刻提速！同时，启动下一代更高功率丶更高稳定度EUV光源的预研，目标直指未来更先进的制程！」

当天下午，华夏芯谷举行了一场简朴而郑重的内部庆功会。

没有鲜花彩带，只有清茶一杯。陈醒看着台下这些面容憔悴却目光坚定的「追光者」，心潮起伏。

「同志们，EUV光源的突破，是我们『追光计划』的一座里程碑！它证明了，没有什麽技术壁垒是不可打破的！」

他的声音在车间里回荡，

「但这，仅仅是开始！接下来，14nm流片是检验我们成果的关键一役，EUV整机的自主集成是下一个必须攻克的堡垒！前路注定荆棘密布，但我相信，手握『华夏之光』的我们，必将一往无前！」

庆功会结束的哨音，也是下一场战役冲锋的号角。

章宸团队开始对「天权5号」的最终流片数据做最后一遍校验。

梁志远则带领工艺团队，在14nm实验线上进行着流片前的最后一次全流程工艺模拟。

然而，就在流片启动前夜的最终评审会上，梁志远指着一组数据，眉头紧锁：

「陈总，我们发现14nm FinFET电晶体的阈值电压均匀性，在不同晶圆区域还有纳米级别的差异。虽然目前在规格范围内，但可能会影响最终晶片的极致性能和良率上限。」

所有人的目光再次聚焦到陈醒身上。

陈醒没有丝毫迟疑，目光扫过梁志远和章宸：

「成立临时攻坚组！梁志远，你负责工艺端，哪怕把工艺窗口再缩小一纳米，也要把均匀性给我提上来！章宸，你从设计端配合，看看能否通过设计-工艺协同优化，补偿这部分波动！流片计划不变，我们要用最完美的状态，迎接这场『大考』！」

夜色深沉，华夏芯谷的晶圆厂内依旧灯火通明。

EUV光源的成功突破，为这片寂静的战场投下了最耀眼的光束。

而一场决定「天权5号」命运，乃至未来科技先进位程未来的流片之战，已进入最后的读秒阶段。